습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
|
펄스가열에 의한 무전해 Ni-P 합금피막의 열안정성 평가법의 개발
무전해 Ni-P 합금피막의 열변화거동에 대한 펄스가열과 통상의 장시간가열의 효과를 비교하여, 펄스가열에 의한 열안정성평에 관한 보고
니켈/Ni
·
표면기술 · 40권 1호 1989년 · Jun KAWAGUCHI ·
Hideo YAMAZAKI
외 ..
참조 46회
|
니켈, 환원제, 착화제, 및 촉진제로서 조성물의 침착 속도를 촉진하기에 충분한 양의 메소이온성(mesoionic) 화합물을 포함하는 무전해(electroless) 니켈 도금 조성물
니켈/Ni
·
한국특허 · 2003-0033986 · 허버요헨 ·
에글리 안드레
참조 61회
|
무전해 니켈도금을 안정적으로 연속도금할 필요가 있는, 니켈염 환원제 착화제 및 촉진제를 포함 무전해 니켈도금욕 조성물이다. 상기 촉진제는 상기 조성물의 석출 속도를 촉진하기에 충분한 양의 메소이온 화합물이다. 해당 메소이온 화합물은 황을 포함 할 수있다. 메소이온 화합물의 구조는 토리아...
니켈/Ni
·
일본특허 · 2003-183845 · Shiply company ·
참조 84회
|
무전해 니켈 도금 조건에 따른 안정도와 도금피막 특성에 미치는 영향
저온 공정에 적용이 가능한 도금액을 제조하여 도금액의 조성 온도 pH 안정제등의 도금조건에 따른 도금속도와 도금피막의 성질에 대하여 고찰
니켈/Ni
·
부식학회 · 29권 1호 2000년 · 허진 ·
이재호
참조 81회
|
아크릴 아미드 및 / 또는 메타 크릴 아미드의 양이온 성 중합체를 함유하는 향상된 안정성을 갖는 무전해구리 도금욕스로, 도금조에는 구리이온 소스, 구리이온 소스용 환원제 및 착화제가 포함되어 있다.
니켈/Ni
·
미국특허 · 1987-4655833 · William J. Amelio ·
Peter G. Rartolotta
외 ..
참조 60회
|
도금액의 조성과 도금조건을 여러가지로 변화시키면서 그때 얻어지는 도금층의 석출속도와 물성을 조사하여 최저의 도금액 조성과 도금조건을 찾아내며 얻어진 도금층을 열처리 하였을때 얻어지는 조직 경도및 내식성의 변화를 조사 1. 차아인산소다로 환원된 니켈층은 비정질 NiP2 합금으로 석출고...
니켈/Ni
·
금속표면처리 · 15권 3호 1982년 · 김만 ·
김대룡
외 ..
참조 52회
|
무전해니켈 (EN) 도금이 시장에 나와 있기 때문에 5월 응용분야에서 경질크롬 도금을 대체할수 있는 대체품으로 선정되었다.
니켈/Ni
·
Product Finishing · Jan 1990 · Robert A. Jeanmenne ·
참조 64회
|
각종 치환금 Au 도금욕과 하지 니켈도금의 상관성에 관하여
최근 전자기기의 소형화 고기능화에 따라 전극의 미세화, 배선의 미세 피치화 및 회로의 독립화가 진행되어, 전자부품과 회로기판 등의 접합 납땜 젖음성 전기전도성 그리고 내식성이 뛰어난 무전해금 Au 도금이 요구되고 있다. 일반적으로 도금욕은 욕안정성이 뛰어난 시안화물 이온을 착화제로 이용한...
니켈/Ni
·
関東学院大学 · na · 山本誠二 ·
中里純一
외 ..
참조 61회
|
금속 매트릭스에 분산되고 무전해 도금에 의해 형성된 섬유입자로 구성된 복합피막은 수용성 아민 또는 암모늄염을 무전해도금욕에 첨가함으로써 외관 및 입자 또는 섬유함량이 향상될수 있다. 욕은 수용성 니켈 또는 코발트 염, 차아인산염 환원제, 니켈 또는 코발트 이온을 킬레이트 화하기위한 킬레...
니켈/Ni
·
미국특허 · 1993-5232744 · Takayuki NAKAMURA ·
Tadashi CHIBA
참조 55회
|
히드라진을 환원제로한 무전해 순니켈도금의 욕조성의 단순화
히드라진이 환원제로서 작용할뿐만 아니라, 니켈과 착화를 형성한다는 특성에 주목하여, EDTA 나 젖산이 함유되지 않는 단순한 조성의 도금욕에 관한 검토 [ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの浴組成の単純化]
니켈/Ni
·
표면기술 · 55권 1호 2004년 · Shinji YAE ·
Takahiro HAMADA
외 ..
참조 74회
|