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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 측정하여 표면형태와의 관계에 관하여 조사
크롬/합금
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금속표면기술 · 30권 1호 1979년 · Susumu IGAWA ·
Yasuo UCHIKOSHIKI
외 ..
참조 26회
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O-톨루이딘 아닐린 법에 의한 크롬도금액 중의 염화물의 간이정량
종래의 톨루이딘 아닐린법을 개량하여, 크롬도금액중의 염화물 또는 기타 용액중의 미량 염화물을 간이 정량법으로 분석
시험분석
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금속표면기술 · 25권 11호 1974년 · Saburo KONISHI ·
Takahide YUROI
참조 31회
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불소전극에 의한 크롬도금 액중의 불화물 및 규불화물의 정량
크롬도금액 중의 불소 및 규불화물의 불소전극에 의한 정량방법에 대해서는 이미 발표되어 있지만 이에 대해서는 이전에 언급한 바와 같이 의문점이 있고, 또 앞으로 설명된대로 분석작업으로도 문제가 있기어 검토하기로 했다.
시험분석
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금속표면기술 · 24권 4호 1973년 · Saburo KONISHI ·
Mituaki TADAGOSHI
외 ..
참조 29회
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크롬도금액 중의 황산분석은 황산분을 염화바륨에 의해 침전시키고 이 양을 중량분석으로 행해지고 있지만,이 방법은 상당한 분석시간을 필요로 하기 때문에 공장 현장 등에서는 염화바륨에 의한 침전을 원심으로 침전시키고 그 양보다 황산의 양을 측정하는 간이 분석법이 널리 행해지고 있는 것처...
시험분석
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금속표면기술 · 23권 10호 1972년 · Kaoru AOTANI ·
Ichiro KANEKO
외 ..
참조 49회
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크롬도금욕의 헐셀시험에 있어서 음극의 전처리에 관하여
일반적으로 크롬도금욕의 헐셀시험은 음극재질은 구리 도는 황동판을 이용한다. 이때 크롬도금욕중의 화학적 또는 전기화학적으로 복잡한 작용이 일어나, 동일 액중에서도 피복력은 서로 다르게 일어나 판단이 어렵게 된다.
시험분석
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금속표면기술 · 10권 11호 1959년 · Toshiichi NAKAMURA ·
Tetsuo TANAKA
외 ..
참조 38회
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크롬도금조는 1~2 % H2SO4 에 약 250 g/l 의 CrO3 용액으로 구성된다. 철, 납, 구리의 흔적은 도금하는 동안 단계적으로 증가한다. 크롬 도금 공정의 첫 번째 단계와 물체 표면에 대한 첫 번째 양극 공격후에도 철이 수조에 축적된다. 일반적으로 7~8 g/l 의 철 농도는 허용가능한 것으로 간주되고 15~2...
시험분석
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Amel Electrochemistry · 16호 2005년 · Amel ·
참조 106회
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표면장력 요구 사항은 미국 환경보호국 (EPA)의 Chromium MACT에 기록되었다. 크롬도금 과정에서 생성된 가스 거품이 탱크 액표면으로 올라와 파열되기 때문이다. 파열된 작은 방울의 크롬산이 방출된다. 용액의 표면장력이 클수록 이러한 물방울이 커진다. 결과적으로 더 많은 크롬산 가스가 방출된다....
시험분석
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Plating & Surface Finishing · March 1996 · Frank Altmayer ·
참조 48회
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용매로 전달되는 3가크롬 이온의 일부는 양극에서 다시 6가로 산화된다. 음극영역과 양극영역 사이의 비율을 적절하게 선택하면 필요한 범위 내에서 3가크롬 농도를 유지할수 있지만 분석제어는 주기적으로 수행되어야 한다.
시험분석
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Metal Finishing · May 1995 · S. Nikolova ·
T. Dobrev
외 ..
참조 41회
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