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검색글 팔라듐촉매 18건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

팔라듐 Pd0 촉매를 사용한 지르코니아 입자의 무전해구리도금을 조사했다. 도금되지 않은 구리 Cu 및 도금된 산화지르코늄 ZrO2 입자는 ZrO2 입자의 무전해 구리도금 메커니즘을 이해하기 위한 다양한 분석기술이 특징이며, 이는 Cu 도금을 위한 촉매를 제공하는 순수한 금속 Pd0 클러스터를 생성하...

구리/Cu · J. Am. Ceram. Soc. · 86권 2호 2003년 · Satyajit Shukla · Sudipta Seal 참조 38회

계면활성제를 함유한 콜로이드를 이용한 종이의 무전해 도금방법을 설명하고, 표면과 내부도금의 특성을 설명

무전해도금기타 · 실무표면기술 · 34권 4호 1987년 · Yukimichi NAKAO · 참조 36회

구리를 seed layer로 증착하기 위하여 그 동안 문제되어왔던 표면의 자발적인 촉매화를 유발시키기 위하여 팔라듐을 catalytic activator로 사용하였다. 또한 팔라듐 입자을 생성시키는 전단계인 세정공정이 어떠한 영향을 주고 결과적으로 구리 증착에 어떠한 영향을 주는가에 대하여 연구하였다.

비금속무전해 · Web · na · 오윤진 · 박종호 외 .. 참조 33회

히드라진 및 차아인산염 기반 팔라듐도금은 도금조 화학이 전착된 팔라듐막의 도금효율 및 피막품질에 미치는 영향을 입증하기 위해 선택되었다. 또한 차아인산염 기반 도금조에서 팔라듐의 전착역학도 보고된다. 간단한 도금 모델은 파종된 지지대에 팔라듐 전착을 정확하게 예측하였다.

응용도금 · Membrane Science · 182호 2001년 · Y.S. Cheng · K.L. Yeung 참조 23회

EU RoHS (전기전자제품의 유해물질 제한 지침)와 중국 RoHS (전자정보제품오염방지관리법) 등 유해물질 관련 국제환경규제가 날로 강화됨에 따라 국내 중소기업의 효과적이고 효율적인 대응 지원을 위해 중소기업청과 대한상공회의소 지속가능경영원이 공동으로 개발한 실무 가이드이다.

비금속무전해 · 중소기업청 · 2007.10 · 정수봉 · 최광림 외 .. 참조 29회

플라스틱의 무전해도금을 촉진하기 위해 지금까지 사용된 산업 활성화제 또는 촉매는 대부분 팔라듐을 기반으로 하며 그 특성상 독점적이었다. 그러나 금기반 촉매도 효과적이며, 저자는 준비 및 사용이 쉬운 콜로이드 금 Au 활성화제에 대해 설명한다.

비금속무전해 · Gold bulletin · 12권 2호 1979년 · Michael C. Stuart · 참조 25회

양이온교환 수지분말을 안료로한 무전해도금용 전처리제를 조사하여, 소재에 도포하여 경화된 하지층을 만들어, 유해한 크롬산등에 의한 에칭처리와 팔라듐염을 이용한 촉매화 처리를 필요로 하지 않는 신규 무전해도금법을 개발되었다. 전처리제 냉각 자켓이 설치된 스텐테인리스 베셀에 ...

비금속무전해 · Web · na · Hiroaki Obata · Tomoki Tanaka 참조 34회

반도체소자의 금속배선공정에서 구리를 무전해도금 방식으로 증착하는 공정이다. 팔라듐촉매를 이용하여 웨이퍼의 표면을 활성화 시켰으며 또한 팔라듐 공정을 변화시킴으로서 웨이퍼의 배선 내에만 선택적으로 팔라듐을 증착시키는 공정을 개발하였다. 또한, 무전해도금을 실시하여 웨이퍼의 배선 내에...

비금속무전해 · na · na · 오윤진 · 김성희 외 .. 참조 65회

무전해도금(Electroless Plating) 공정에 사용되고 있는 팔라듐촉매 용액의 담지 특성 및 효율이 향상될 수 있는 팔라듐 촉매 용액의 제조방법, 보다 상세하게는 팔라듐 촉매 전구체에 산 용액을 첨가하여 pH 가 3~6 인 팔라듐 촉매 용액을 제조한 후 수용성 고분자 수용액을 첨가하여 촉매 용...

비금속무전해 · 한국특허 · 2006-0083006 · 류현규 · 고민진 참조 90회

다이렉트도금중에 팔라듐/주석 콜로이드 입자를 이용한 수지도금에 있어서 촉매화 및 도체화를 목적으로, 이후 전해구리도금을 직접하는 방법으로, 그 석출에 관련한 기초적인 사항을 검토

비금속무전해 · 표면기술 · 49권 6호 1998년 · Sachiko ONO · Totsuya OSAKA 외 .. 참조 35회