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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

유리에 직접 구리도금의 준비를 논의하였다. 구리가 에칭없이 유리에 직접 도금되면 특히 고주파 신호에 대한 고속전파가 달성될수 있다. CuSO4 5H2O EDTA 4K 2,2'-Bipyridyl PEG-1000 Formaldehyde 0.006~0.03 mol/dm3 0.089~0.384 mol/dm3 0.1 g/dm3 0.1~5.0 g/dm3 0.05~0.2 mol/dm3 pH Temp. Agitati...

구리/Cu · 표면기술 · 58권 10호 2007년 · Mitsuhiro WATANABE · Hiroyuki DEISA 외 .. 참조 94회

균일 석출성을 향상할 목적으로, 각종의 물리적 및 화학적 인자에 관한 검토

구리/Cu · 표면기술 · 42권 7호 1991년 · Hideo HONMA · Tomoyuki FUJINAMI 참조 44회

아연 전기도금의 초기단계에 대한 벤조산 (BA) 및 폴리 에틸렌글리콜 (PEG) 과 같은 유기첨가제의 영향은 순환 전압전류법, 에너지 분산분광법, X선흡수 분광법을 사용하여 철전극에서 조사하였다. BA 는 주로 아연 이온과의 상대적으로 약한상호 작용으로 아연층의 거칠기 제어에 기여했다. 그러나 PEG...

도금자료기타 · Electrochemical Society · 151권 1호 2004년 · 이주열 · 김재우 외 .. 참조 44회

In situ XDR 측정용의 전용 셀을 새로히 고안하여, 구리의 무전해 석출 과정의 경시 변화를 박막 XRD로 측정하는 방법을 검토하고, 무전해 석출과정에 있어서 첨가제 효과에 관하여 결정학적 연구를 함

구리/Cu · 표면기술 · 43권 5호 1992년 · Kyoichi WATANABE · Naoki MATSUDA 외 .. 참조 38회

촉진제는 비스(3-설포프로필) 디설파이드 (SPS), 억제제로 폴리에틸렌글리콜 (PEG) 와 염소이온(Cl) 을 이용하는것이 일반적이다.

인쇄회로 · 표면기술 · 55권 12호 2004년 · Kazuo KONDO · 참조 53회