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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 크레졸설폰산 4건

습식도금 자료분류

자료수 10841 건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

욕분석, 광택제의 소비, 알데하이드와 아민의 반응 생성물을 포함하는 산성 광택 주석도금에 대한 온도 및 불순물의 영향, 에테르 유형 비이온성 표면 활성화제, 크레졸 설폰산 및 포름 알데하이드를 연구하고, 도금액중 크레졸 설폰산 및 황산을 결정 하였다

석납/합금 · 금속표면기술 · 14권 12호 1963년 · Nobuyasu DOHI · Kikio KAMON 참조 73회

정전류 펄스전해법에 의한 주석/니켈 Sn/Ni 다층막제제용 도금욕조성과 전해조건및 제작된 다층막의 구조에 관한 검토

합금/복합 · 표면기술협회 강연대회 · 102호 2000년 9월 · Shoko ITO · Takeshi MIYAKE 외 .. 참조 29회

도금욕과 첨가제의 일반적인 설명으로, 흡착성 유기물의 역할의 해석을 위한 시험

도금자료기타 · 금속표면기술 · 37권 12호 1986년 · Hiroyuki NEZU · 참조 31회

현재 개발중인 주석을 기초로한 납 Pb 프리 합금도금에 관하여, 도금욕 성분의 역할에 관하여 설명하였다. POOA : N,N'-비스 (폴리옥시에틸렌) 옥타데실아민 / 계면활성제 PEGNPE : 폴리에틸렌 글리콜 노닐페닐에텔 / 계면활성제 RPAA : 아미노알데 하이드의 반응생성물 / 광택제 POETSPE : 폴리옥시에...

석납/합금 · 표면기술 · 50권 2호 1999년 · Kiyotaka Tsuji · 참조 54회

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