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검색글 아릴설폰산 4건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

니켈 및/또는 아연오염은 니켈 및 아연에 대한 도금욕의 내성수준을 높이면 처리할수 있으므로 침전제를 사용할 필요가 없다. 본 발명은 아연 및/또는 니켈, 또는 화학식 RS로 표시되는 유효량의 화합물로 오염된 3가크롬욕에서의 용도에 관한것으로, 여기서 S는 설피네이트, 설포네이트 및 산으로 구성...

크롬/합금 · 미국특허 · United States Patent 4450052 · Warren H. McMullen · Hyman Chessin 참조 49회

균일한 새틴 마감 니켈 또는 니켈합금 피막을 얻기 위해, 하나 이상의 4차 암모늄 화합물에 추가로 일반식의 설포석신산 화합물을 함유하는 산성 니켈 또는 니켈합금 전기도금욕으로, 여기서 R1, R2 는 수소이온이며, 알칼리토 이온, 암모늄 이온 및/또는 C1~C18 절반 하이드로카본.

니켈/합금 · 국제특허 · 2001-88227 · Klaus-Dieter SCHULZ · Wolfgang DAHMS 외 .. 참조 40회

니켈도금 또는 니켈합금도금을 전착을 위한 산성 도금조입니다. 욕은 니켈이온 및 일반식을 갖는 첨가제를 포함한다 : H2C = CHCH2NT2NR1R2 또는 [H2C = CHCH2N + R1R2R3] mXm- 여기서 R1, R2는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 알릴, 프로핀, 프로판디올 및 이들의 조합; X n-는 n-가 무기 또는 유...

니켈/합금 · 국제특허 · 2004-072320 A2 · Leonard L. Diaddario · 참조 46회

이론적인 양장역학적 방법을 이용하여 광택제의 능력을 조사한 다음 결정핵 발생 속도식을 도입하여 광택제의 메카니즘을 제안한다. 또한 실험적 결과를 이용하여 광택도와 광택제의 전자밀도 사이의 상관 관계를 조사하였다.

니켈/합금 · 과학기술처 · 1990년 3월 · 서만철 · 박해덕 외 .. 참조 33회