저농도 설파민산욕에서 니켈도금피막의 특성과 MEMS에의 응용
설파민산 니켈욕을 기본으로 하여 도금조건인 전류밀도, pH,온도등 각종요인이 도금피막의 경도나 항장력, 응력 등 피막물성에 미치는 영향에 대하여 조사하고, MEMS 디바이스에 요구되는 피막물서으로 높은겨오, 낮은응력의 도금피막제작을 시도하였다.
니켈/합금
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표면실장기술 · 7호 2011년 · Yohei WAKUDA ·
Satoshi KAIZUKA
외 ..
참조 8회
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Modern Electroplating (28) 미소 전기화학 시스템
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기술자료기타
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Modern Electroplating · Fifth Edition 2010 · GIOVANNI ZANGARI ·
참조 72회
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