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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 아연치환 4건

습식도금 자료분류

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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

아연 징케이트는 자기 컴퓨터 메모리 디스크의 무전해 니켈 도금전에 알루미늄의 전처리로 사용된다. 4개의 침지 아연 징케이트액은 단일 단계 또는 이중 아연 징케이트을 사용하여 22 °C 에서 처리후 90 °C 의 (높은 인) 차아인산염 욕에서 무전해 니켈 도금을 하였다. 처리공정은 아연 징케이트 ...

치환도금 · Web · na · S. Court · C. Kerr 외 .. 참조 55회

아연 확산층 중의 공식 진행속도와 작게 만들기에 적절한 아연 확산층의 생성 현황을 검토한 결과를 설명

응용도금 · 경금속 · 38권 1호 1988년 · Takeshi HATTORI · Masayuki HAYAKAWA 외 .. 참조 11회

실제 디바이스에 이용하는 이종금속으로부터 만든 전극을 상정하고, 비저항이 다른 규소 Si 소재를 이용하고, 징케이트처리에 있어서 아연 Zn 치환반응의 영향을 밝히고, 아연 치환막과 니켈-인 NiP 석출막의 표면형태 관찰 및 전극의 침지전위 변화를 측정하고, 알루미늄 Al 합금막의 용해반응...

경금속처리 · 표면기술 · 61권 6호 2010년 · Mikiko SAITO · Takeyuki MAEGAWA 외 .. 참조 60회

마그네트론 스퍼터법으로 만든 알루미늄 Al 박막을 정전위 분극하에서 징케이트 전처리할때 아연치환 석출량, LSI용 Al 패드의 도금 전처리공정을 시물레이션을 위한, 모델 IC의 각 핀에 미소 Al 전극을 접속하여 징케이트 처리할때 IC 내부회로가 징케이트 전처리에 있어서 영향을 조사하였다. [LSI用A...

도금자료기타 · 표면기술 · 54권 6호 2003년 · Kazuhisa AZUMI · Yuichi KOYAMA 외 .. 참조 44회

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