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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

정상적인 도금조건에서 와트욕에 있는 것과 비교하여 구연산욕의 도금에 대한 광택제의 효과를 연구하였다.

니켈/합금 · 표면기술 · 55권 2호 2004년 · Tasashi DOI · Kazunari MIZUMOTO 외 .. 참조 44회

직경 40 μm, 깊이 25 μm 비아홀에, 비아필드 전기구리 도금을 하여, 최종적으로 표면의 구리층 두께가 7 μm 것을 목표로한 연구

구리/합금 · 표면기술 · 58권 4호 2007년 · Kazuo KONDO · Taichi NAKAMURA 외 .. 참조 47회

밀착성 시험법의 개량, 밀착력의 측정을 할때, 크롬도금의 전석기구가 소지금속 표면의 수소과전압에 따라 크게 영향을 받는다

크롬/합금 · 금속표면기술 · 37권 9호 1986년 · Yoshio HASEGAWA · Shiinsaku HANASAKI 외 .. 참조 34회

전해조건과 탄소량, 피막의 열처리에 의한 경도의 변화 및 경화기구에 관하여 검토한 보고서

크롬/합금 · 금속표면기술 · 37권 10호 1986년 · Matsufumi TAKAY · Masahisa MATSUNAGA 외 .. 참조 40회

우수한 광택제로, 헥사메틸렌 테트라민과 에피크로르 히드린으로 조제된 광택제를 사용하여, 전위변화에 반한 광택제의 전석아연의 결정성장과 정립 영향, 징케이트 이온의 확산등을 연구

아연/합금 · 금속표면기술 · 35권 3호 1984년 · Yutaka TSURU · Morie MATSUNAGA 외 .. 참조 51회

표점간거리와 신율의 관계, 인장강도와 신율에 있어서 전해조건과 전착층의 두께 영향등에 관하여 조사

구리/Cu · 금속표면기술 · 35권 3호 1984년 · Shozo MIZUMOTO · Hidemi NAWAFUNE 외 .. 참조 34회

고분자 전해질을 광택제로 사용하여, 광택도금을 얻는 전류밀도 및 광택제 농도에 관하여 검토

아연/합금 · 금속표면기술 · 33권 12호 1982년 · Yutaka TSURU · Yoshidake NAKAGAWA 외 .. 참조 33회

시안욕으로 부터의 전석 금-주석 Au-Sn 및 은-주석 Ag-Sn 합금에 관한 보고서

합금/복합 · 금속표면기술 · 34권 9호 1983년 · Yoshimi TANABE · Naoya HASEGAWA 외 .. 참조 59회

여러 유형의 아민과 에피클로로히드린의 반응 생성물을 광택제로 사용하였다. 광택제를 함유한 욕에서 얻은 아연 전착물은 {1120} 우선 배향을 나타냈다. 전극 표면에 흡착된 광택제는 아연 전착의 과전압을 증가시켜 수소의 공침을 초래하였다. 부분 전류 밀도의 비율(iH2/iZn)은 광택제를 세 그룹으로...

아연/합금 · 금속표면기술 · 34권 7호 1983년 · Yutaka TSURU · Yoshitaka NAKAGAWA 외 .. 참조 52회

도금시간의 경과에 따른 여러두께의 도금막을 만들고, 그 성장표면 근접서 투과전현 관찰용 박막을 얻는 실험

전기도금기타 · 금속표면기술 · 34권 3호 1983년 · Hiroshi IMAI · Tohru WATANABE 외 .. 참조 31회