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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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포름알데히드 프리 무전해 구리도금 석출에 대한 연구
포름알데히드가 없는 무전해 구리 도금 공정을 개발을 연구하였다. 글리옥실산을 환원제로 사용하여 도금욕을 최적화 하였다. 온도, 환원제 및 착화제의 농도와 같은 도금욕 변수를 연구하였다. 구리 도금에 대한 글리옥실산의 영향은 정전류 분극 측정을 사용하였다. 구리 도금의 구조를 확인하기 위해...
구리/Cu
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Plating & Surface Finishing · Jul 2002 · S. Karthikeyan ·
T. Vasudevan
외 ..
참조 100회
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착화제/안정화제를 함유한 비시안화 알칼리성 주석산염/아연산염욕 조성으로부터 주석-아연 합금 도금의 전착을 보고하였다. 도금욕 또한 피막 특성을 개선하고 반광택 외관을 제공하는 첨가제를 포함하였다. 전착물 구성에 대한 프로세스 변수의 영향을 연구하였다. 25±5 % 아연(균형 주석) 합금 피막...
석납/합금
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Applied Surface Science · 103권 1996년 · O.A. Ashiru ·
J. Shirokoff
참조 77회
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수용성 구연산염 전해질로부터 주석-아연 합금 전착 공정을 연구하였다. 적용된 전위, 전류 밀도, 유체역학 조건, 전해질 조성 및 전하 이동이 Sn-Zn 합금의 전착이 결정하였다. 이러한 매개변수에 따라 구성과 모양이 다른 피막을 얻을 수 있다. 밝으 광택의 Sn–Zn 의 전착 도금은 구연산염욕 전해질에...
석납/합금
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Surface & Coatings Technology · 240권 2014년 · Honorata Kazimierczak ·
Piotr Ozga
외 ..
참조 77회
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염화아연 도금욕의 경우 비시안화욕, 액효율의 개선 및 우수한 광택의 이점을 가지고 있다. 그러나 모든 도금 시스템과 마찬가지로 하나 이상의 일상적인 운영 문제에 직면하고 이를 당연하게 여길 수 밖에 없다. 염화아연 도금과 관련된 일반적인 문제의 근본 원인과 실용적인 해결책을 설명하였다. 문...
아연/합금
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Plating and Surface Finishing · Oct 1967 · Stephen Schneider ·
참조 103회
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주석과 그 전착의 중요성을 요약하고 주석 도금 범위를 설명하였다. 지난 20년 동안 나노 구조 전착에 대한 연구, 환경 친화적인 메탄설폰산욕의 채택, 다층 및 복합 재료를 포함한 보다 야심찬 피막을 포함하여 주석 도금기술이 발전하였다. 최신 전해질, 펄스 도금 및 첨가제를 통해 전착구조 및 구성...
석납/합금
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Surface & Coatings Technology · Dec 2015 · Frank C. Walsh ·
C. T. J. Low
참조 114회
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음극 전기화학 처리에 의한 아연-인산아연 복합 피막의 형성
음극 전기화학적 처리에 의한 아연-인산아연 복합 피막 형성 및 내식성을 평가하였다. 음극 인산염 처리 공정은 몇 가지 고유한 이점을 제공한다. 저온에서도 우수한 품질의 도료를 생산할 수 있어 원하는 두께의 도막을 전착할 수 있어 에너지 절약, 처리 비용 절감 및 플랜트 수명 개선 등의 이점을 ...
합금/복합
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Surface & Coatings Technology · 200권 2006년 · S. Jegannathan ·
T.S.N. Sankara Narayanan
외 ..
참조 45회
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thiocarbamide가 있는 상태에서 Zn-Mn 합금의 전착
황산-구연산욕에서 Zn-Mn 합금의 전착에 대한 thiocarbamide 첨가 (0.5-2.0 g/l)의 영향을 연구하였다. 합금 조성의 조사는 원자 흡수 분광법, EDX 및 XPS에 의해 수행되었습니다. Zn-Mn 합금의 거동은 폭기된 NaCl 용액에서 자유 부식 전위를 측정하여 테스트되었습니다. 의 사용 thiocarbamide는 유사...
합금/복합
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Surface and Coatings Technology · 154권 2003년 · Benedetto Bozzini ·
Egidijus Griskonis
외 ..
참조 46회
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와트형 전해질로부터 니켈의 전착에 대한 사카린과 4급 염화암모늄의 영향
다양한 전착 매개변수에 대한 4차 염화암모늄(QACl) 및 사카린의 존재 효과를 와트형 도금욕에서 스테인리스강 음극의 니켈 전착에 대해 조사하였다. 포함된 매개변수 음극 전류 효율, 욕의 침투력, 음극 분극, 결정 방향 및 석출물의 품질로다음 첨가제를 조사하였다. saccharin, 1-alkyloxymethyl 3-b...
니켈/합금
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Surface and Coatings Technology · 183권 2004년 · Aleksander Ciszewski ·
Szymon Posluszny
외 ..
참조 59회
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경질 크롬 도금욕을 처리하는 데 사용되는 두 가지 주요 전기화학 공정을 비교었다. 실험실 규모에서 얻은 결과로 제거율은 PCM 셀에서 약간 더 나은 반면 에너지 (시간전위)는 FCMP에서 더 낮은 것을 나타냈다. PCM 공정의 주요 단점은 음극액 pH의 증가와 그에 따른 침전으로 인한 슬러지 형성이다. ...
크롬/합금
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Plating & Surface Finishing · Apr 2002 · V.S. Donepudi ·
N.R. Khalili
외 ..
참조 73회
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침투력 측정어 새로운 파워 셀에 대해 자세히 설명하였다. 도금조에 적접 설치할 수 있는 작은 고정물로 사용할 수 있는 Assaf Cell 은 작은 홈, 일반적으로 인쇄 회로 기판(PCB)의 관통 스루홀을 시뮬레이션하는데 특히 유용하다. Assaf-Cell 테스트 패널의 앞면과 뒷면에 있는 금속 두께의 비율 값은 ...
시험분석
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Plating & Surface Finishing · May 2001 · D.R. Gabe ·
M. Ward
외 ..
참조 56회
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