글리신욕에서 4성분 니켈-텅스텐-인-산화지르코늄 NiWPZrO2 복합 피막의 무전해 석출 속도
4성분 Ni-W-P-ZrO2 복합 피막을 무전해도금 하였다. 니켈 이온 착화제로 아미노아세트산을, 텅스텐산 공급원으로서 텅스텐산나트륨(VI)을 함유하는 욕을 사용하였다. 도금욕의 pH가 증가함에 따라 (5 에서 6 으로) 피막의 인 함량이 감소하는 동안 도금석출 속도도 증가하는 것으로 확인되었다. 아미노...
합금/복합
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Applied Surface Science · 255권 2009년 · B. Szczygie ·
A. Turkiewicz
참조 2회
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