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무전해구리도금
무응력 무전해 구리 석출의 방법
Method of depositing a stress-free electroless copper deposit
등록
:
2008.08.20
⋅ 38회 인용
출처
:
미국특허
, 1980-4228213, 영어 7 쪽
분류
:
특허
자료
:
웹 조사자료
저자
:
William M. Beckebaugh
1)
Kim L. Morton
2)
기타
:
자료
:
분류 :
에틸렌디아민
⋅
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테트라키스
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목록
도금 첨가제 원료공급
도금첨가제 원료
광택제를 만들자
자료요약
카테고리 :
구리/Cu
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.12
응력이 없는 무전해 구리도금하는 방법을 시험하였니다. 이 방법은 촉매화된 표면을 구리이온 공급원, 구리이온을 위한 환원제를 포함하는 용액과 접촉시키는 단계를 포함한다.
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