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무응력 무전해 구리 석출의 방법
Method of depositing a stress-free electroless copper deposit

등록 : 2008.08.20 ⋅ 38회 인용

출처 : 미국특허, 1980-4228213, 영어 7 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.12
응력이 없는 무전해 구리도금하는 방법을 시험하였니다. 이 방법은 촉매화된 표면을 구리이온 공급원, 구리이온을 위한 환원제를 포함하는 용액과 접촉시키는 단계를 포함한다.
  • 금속의 부식에 관한 정확한 이해가 필요며 방식에 대해서 오늘날 이미 알고 있는 지식을 활용하는 것만으로도 부식 손실액의 대부분은 방지할수 있을것으로 보입니다. 사실...
  • 수산화 슬러리가 생기게 하지 않고 어떻게 폐수문제가 해결되는지 여러가지 간으성을 소개하려고 한다. 이것을 위하여 우선은 유가물질을 액상으로 재회수하는 것을 살펴보...
  • 종횡비가 높은 MEMS 장치에서 LIGA 또는 LIGA와 유사한 프로세스가 일반적으로 사용된다. 이러한 공정에서 소자구조의 재료는 전착이 쉽기 때문에 니켈 또는 구리로 전...
  • 전 농도 라크용 시안화아연 도금 광택제로 소모량이 적고 안정된 작업이 가능하여 경제적이다. 고온에 사용가능하며, 균일전착성이 우수한 도금을 할수 있다.
  • 최근 몇년동안 철강에 아연도금 피막을 생산하는데 많은 발전이 있었고 피막의 내식성을 향상시키기 위한 노력이 수시로 이루어졌다. 아연-철 합금이 그러한 개발중의 ...