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코발트 나노와이어의 전착
Electrodeposition of Cobalt Nanowires

등록 : 2014.02.23 ⋅ 21회 인용

출처 : Bull. Kor. Chem. Soc., 34권 3호 2013년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.06
선폭이 70~200 nm 인 코발트 나노와이어의 전기도금 공정을 개발했다. 도금전해질은 황산코발트 CoSO4 와 유기첨가제인 디메틸 디티오 카바민산 에스테르 나트륨염 (DAESA) 으로 만들어 졌다. 도금 전해액의 DAESA 는 도금된 코발트 박막의 표면 거칠기를 가속화하고 감소시키는 효과가 있었다. 도금 전류밀도가 6.25 mA/cm2...
  • 납땜 조인트의 납 Pb, 특히 반도체 (SC) 부품 핀마무리에 납에 초점을 맞추고 적절한 대체품을 찾는데 직면한 중대한 과제에 중점을 두었다.
  • 이 작업은 철분말의 무전해니켈 도금의 기술적 타당성을 보여주었다. 도금된 분말은 높은수준의 균질성을 나타내며 소결된 콤팩트는 우수한 기계적 특성을 가지고 있다. 분...
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