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어려운 도금재에 대한 도금기술
Technology to deposit Hard plating materials

등록 2014.06.20 ⋅ 58회 인용

출처 정밀공학회지, 78권 12호 2012년, 일어 4 쪽

분류 해설

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기타

難めっき材に対するめっき技術

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.06.25
팔라듐 사용량을 증가하지 않고 ABS 성형품의 도금석출이 어려운 부품에 도금석출하는 기술을, 저 팔라듐 농도조건에 있어서 도금석출을 가능하게하는 사례를 해설
  • 298K 욕온에서 전착된 Pd 필름에 공동 전착된 수소는 나노공극에서 공석 수소 클러스터와 분자 수소로 존재한다. 278K 욕온에서 Pd 전착은 전류 효율을 감소하고 간극 수소...
  • 황동 ㆍ Brass 일명 놋쇠. 동 70% 와 아연 30% 로 된 합금이나 실용되고 있는 것은 보통 아연이 40% 이하를 함유한 것이다. 전신성·가공성이 뛰어나 널리 쓰인다. 아연이 32...
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  • 수용성 금화합물, 착화제, 환원제로 구성된 무전 해 금도금조에 소량의 폴리비닐 피로디돈을 첨가한다.
  • 무전해니켈도금막의 물리적 및 기계적 성질은 도금층의 구조, 도금층의 P 함량 및 열처리에 따라 크게 달라지며, 도금공정중 용액의 종류, pH, 첨가제의 영향을 받는다....