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팔라듐 무전해 도금욕조
Electroless Pallasium plating bath

등록 : 2008.09.12 ⋅ 39회 인용

출처 : 한국특허, 1984-001725, 한글 6 쪽

분류 : 특허

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.22
니켈 박층판에 팔라듐을 자동접촉 화학 환원반응으로 도금하는 욕조 및 이러한 방법으로 제조된 팔라듐 합금 박층판
  • 새로 얻은 전환피막은 수산-암모늄 (oxalato) chromate [III] -(ATOC)와 함께 암모늄-Cr(III) 염의 적용을 기반으로 한다. 농도와 침지 시간에 따라 3가지 유형의 CF를 사용...
  • 시안화물 기반의 구리, 아연 및 카드뮴 도금공정에 시안화물 기반이 아닌 대안을 사용할수 있다. 이러한 대체 프로세스는 규제 및 보고 요구사항을 줄이고, 근로자에 대한 ...
  • 전처리 이전의 문제로서 다이캐스팅 제품을 반드시 도금을하고 연마한다. 따라서 연마하는 것을 전제로 디자인되어 제작되지 않으면 안되는 것을 말하고 있으며, 이는 ...
  • 피복력 · Covering Power 도금에서 음극 (제품) 의 표면전체에 도금되는 능력을 말한다. 도금제품은 대부분이 복잡한 입체적인 구조로 되어 있어, 고전류부 (돌출부) 와 저...
  • 밀착강도 향상을 목적으로 팔라듐과 강한 상호작용을 하는 아미오기를 LCP 필름 표면에 처리하여 밀착강도를 향상하는 실험과, 도금에 의한 LCP 필름의 스루홀 필링 도금을 ...