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무전해도금(2)
Review on Electroless Plating (2)

등록 2008.09.22 ⋅ 38회 인용

출처 금속표면처리, 19권 4호 1986년, 한글 34 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.17
현재 연구되어진 문헌을 중심으로 해서, 기본 욕조성 및 조건을 제시하고 일부 도금에 대해서만 실제현장에서 이용되고 있는 현황 및 자상태를 자세하게 언급
  • 이소티오우레아 ㆍ Isothiourea [티오우레아]의 Isomer CH4N2S = 76.12 g/㏖ 백색의 결정체 물에 대한 용해도 13.6 g/100 mL (20 ℃) [구리도금] 등의 첨가제로 사용 참고 [...
  • 신기술 신제품의 개발에 도전하는 새로운 도금에 대하여 설명
  • N9
    Ralufon N9 ^ RALUFON N 20-90 ^ Poly(ethylene glycol) 4-nonylphenyl 3-sulfopropyl ether potassium salt CAS : 119438-10-8 C36H65KO13S = 777.06 g/mol [산성아연도금]...
  • 미세금형등의 제작에 이용되는 마이크로머신기술에 관하여 설명하고, 반으예와 최신의 MEMS에 있어서 전주기술에 관하여 소개
  • n 형 (100) 실리콘 웨이퍼의 무전해니켈 (EN) 도금연구에서 상대적으로 저온 알칼리도금 공정이 개발되었다. 추가실험은 소재의 간단한 에탄올 전처리가 약 9.8~14.7 MP...