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실리콘 웨이퍼에 대한 저온 직접 무전해 니켈도금
Low temperature directure electroless nickel plating on silicon wafer

등록 2010.07.09 ⋅ 161회 인용

출처 Chinese Inst. Engineers, 32권 1호 2009년, 영어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.07
n 형 (100) 실리콘 웨이퍼의 무전해니켈 (EN) 도금연구에서 상대적으로 저온 알칼리도금 공정이 개발되었다. 추가실험은 소재의 간단한 에탄올 전처리가 약 9.8~14.7 MPa 의 우수한 밀착강도를 가진 EN 층을 얻기 위해 실행 가능함을 보여주었다. 텅스텐산 나트륨과 불화나트륨을 모두 사용하여 임계 도금온도를 80 ℃ 에...

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