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MEMS에 응용되는 무전해 니켈 도금을 이용한 마이크로 구조물의 제조
Fabrication of micro-structure with electroless nickel plating for MEMS applications

등록 : 2008.10.20 ⋅ 50회 인용

출처 : 한국부식학회지, 29권 1호 2000년, 한글 7 페이지

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.12.17
저온공정에 적용이 가능한 도금액을 제조하고, 여러가지 전처리 조건, 도금액과 도금조건에 따른 선택성에 대해서 고찰하였으며, 도금조건에 따른 도금속도와 도금피막의 성질에 대해서 고찰하여 최적 도금액의 제조와 도금막의 특성개선에 대한 여구
  • 축퇴(縮退)반도체(투명도전체)의 패턴구조, 광학특성, 전기특성에 관하여 설명하고, 대표적인 재료에 관하여 소개
  • 전체 크롬농도가 21~28 wt % 로 유지되고 있고, 자유 산도가 4.0~4.0 인 크로메이트 처리용액을 아연 도금 강판에 도포하고 소정 온도로 가열하여 건조시킴으로, 상기 ...
  • 과여ㅛㅁ소산염의 분말 약품으로 황산-과산화수소 에칭제와 비교하여 구리표면의 미세한 조도의 에칭이 가능한 약품이다. OXONE은 무전해 구리도금, 옥사이드, 전기구리, 무...
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  • 무정형 니켈인전기도금의 레벨링은 II종 광택제와 화학식 R-COOH (여기서 R 은 수소, 1~5 개의 탄소원자를 갖는 알킬, NH2CH) 를 갖는 유기산과 조합된 상승작용에 의해...