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히드라진 화합물을 환원제로한 무전해금 Au 도금의 석출거동
The behavior of electrless gold plating baths using hydrazine compounds as reducing agent

등록 2009.08.06 ⋅ 76회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 5권 1호 2002년, 일어 3 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.26
환원제의 종류를 바꿈에 따라 석출속도 환원 및 치환 석출등의 변화를 검토하고, 환원제로서 L-아스콜빈산, 티오요소 및 하이드로퀴논을 이용하였다. 기본조성과 도금조건 아황산금소다 황산히드라진 에틸렌디아민 4삭산소다 티오황산소다 아황산소다 0.015 mol/l 0.15 mol/l 0.50 mol/l 0.12 mol/l 0.40 mol/l pH ...
  • 균일전착성의 요인을 해명할 목적으로 각종 니켈도금욕에 관하여 헐셀을 이용한 균일성을 측성하여, 욕조성에 의한 균일전착성의 다른점을 비교검토
  • 원소의 성질 ^ the properties of an element 주기율표 원자 번호 원소명 원소 기호 원자량 밀도(20℃) g/cc 융점(℃) 비등점 (℃) 비열(20℃) cal/g/℃ 융해열 (cal/g) 결정구조...
  • 펄스전해에 가장 특징적인 물질이동 과정 및 전석형태에 크게 영향을 영향을 미치는 전석핵의 발생, 성장에 관하여 기초적인 개요 설명과, 도금 막 형태에 있어서 펄스...
  • 경질크롬 도금과 함께 무전해니켈 도금에 의한 경질피막 형성법이 급속히 신장하고 있으며, 복합도금에 의한 내마모성 피막형성법도 서서히 각광받고 있다. 최근의 동향에 ...
  • 1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 ...