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무전해 니켈-인 도금피막의 초기석출에 있어서 미세구조에 관하여
An electron microscopic study of electroless Ni-P films in the initial stage of deposition

등록 : 2010.01.05 ⋅ 38회 인용

출처 : 금속표면기술, 28권 1호 1977년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.21
환원제로서 차아인산소다를 함유하는 각종 도금 욕에서 얻은 무전해 Ni-P 막의 미세구조를 도금 초기에 전자현미경 및 회절법으로 조사하였다. 각 욕조에서 얻은 Ni-P 피막은 응집체를 형성하는 많은 결정입자로 구성되었다. 응집체의 크기는 도금 속도와 피막의 인함량에 따라 달라지는 것으로 나타났다. 피막의 성장률은 ...

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