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무전해 니켈 텅스텐 인 도금욕의 석출거동
Behavior of Nickel deposition from electroless Ni-W-P plating bath

등록 2010.01.07 ⋅ 44회 인용

출처 금속표면기술, 32권 1호 1981년, 일어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.09
텅스텐이 공석될때 욕중의 착체 및 석출형태등을 용액의 가시 스펙터클 및 전기화학적 방법으로 검토
  • Ni-P/SiC 의 피막특성 및 열처리조건이 마찰계수에 주는 영향에 관하여 검토
  • 화학물질 배출관리 매뉴얼의 도금공정에 한정됩니다. 사업장 도금공정에서 지정화학물질 사용의 적정한 관리와 합리화를 위한 매뉴얼작성을 위한 지침으로 활용하기 위함이다.
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