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무전해구리 도금의 석출형태 제어
Morphology Control of Electroless Copper Plating Deposit

등록 : 2014.11.17 ⋅ 21회 인용

출처 : 일렉트로닉스실장학회지, 8권 6호 2005년, 일어 9 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

無電解銅めっきの析出形態制御

자료 :

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리 도금욕의 기본욕 조성과 첨가제 농도를 변화하여, 암반형 이외의 플레이트형 및 입형, 돌기형의 피막형대를 만들고, 무전해구리 도금욕 조성과 피막 형태에 관하여 검토
  • 플라스틱의 진보는 엔지니어링 플라스틱을 개발하고 그 용도는 종종 금속 분야에 가까워지고 있다. 예를 들어, 아세탈 수지 중 하나 인 Dellin은 생산량의 82 %가 철강, 알...
  • 급속히 발전하는 하이브리드 IC에 지원하는 기판으로 최근사용되는 아루미나 기판에 관한 특징을 설명하고, 세라믹다층 배선기판에 관하여서 설명
  • 최근의 무전해 구리도금의 동향과 도금액 소개
  • XPS는 정보의 깊이가 수 nm 표면의 민감한 측정법으로, 도금 등의 얇은 소재로 고감도 산화 상태 (원자가) 분석으로 이러한 크롬원자가 판정에 유효한 분석법으로 주목받고 ...
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