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ULSI의 무전해 구리 석출
Electroless copper deposition for ULSI

등록 2023.12.13 ⋅ 56회 인용

출처 Thin Solid Films, 262호 1995년, 영어 11 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금통합 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.18
집적 회로 응용을 위한 금속화 방법으로서 무전해 구리 도금 공정을 검토하였다. 화학 용액 및 반응 열역학뿐만 아니라 최소 치수가 0.1~1.0 cm 사이인 평평한 표면과 패턴화된 표면에 도금하기 위한 석출 동역학을 검토하였다. 무 나트륨 구리 도금을 위한 무 알칼리 욕의 개발이 제시되고, 도금 피막의 저항을 최소화하기 ...
  • 니켈-아연 합금도금 ^ Nickel-Zinc Alloy Plating [아연니켈합금도금욕|아연-니켈 합금 도금욕] 참고 [니켈구리합금도금|니켈-구리 합금도금] [니켈코발트합금도금|니켈-코...
  • 비용을 줄이기 위해 커넥터와 같은 전자부품에 사용되는 금 Au 도금두께는 가능한한 얇게 만들어야 한다 (예 : 0.05~ 0.75 μm). 그러나 이러한 피막이 너무 얇으면 핀홀수가...
  • 아연-코발트 Zn-Co 합금의 펄스도금은 역전류를 포함하는 사각펄스를 사용하여 연구되었다. Zn-Co 합금 도금의 표면형태는 주사전자 현미경 (SEM) 을 사용하여 조사되었으며...
  • 힌리히슨욕 ^ Hinritchsen Plating Bath 니켈-코발트 합금도금의 하나로 Otto Hinritchsen 이 개발하였다 240 g/l 황산니켈 35 g/l 염화니켈 30 g/l 붕산 15 g/l 황산코발트...
  • 도금액은 광택제, 억제제 및 캐리어 (CARRIER) 의 첨가물을 함유하고 있으며 도금액은 구리배선을 가지는 반도체 칩과 인쇄회로 기판의 구리도금에 사용된다. 특히 ...