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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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펄스전해 조건이 구리도금 피막의 결정 배향성과 에칭리스에 주는 영향
Effect of Pulse Parameters on the Crystal Orientation and Etching Rate of Copper Films

등록 2014.11.21 ⋅ 27회 인용

출처 표면기술, 64권 6호 2013년, 일어 3 쪽

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パルス電解条件が銅めっき皮膜の結晶配向性とエッチングレートに与える影響

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.27
결정배향 방법으로 펄스전해법을, 에칭액으로는 펄옥소 2유황산암모늄 수용액을 이용하여, 펄스전해 조건 및 첨가제 유무가 구리도금 피막의 결정배향성과 에칭리스에 주는 영향에 관하여 조사하였다.
  • 금도금은 장식목적 및 부식방지를 위해 다양한 기술분야에 사용된다. 시안화물과 시안철 용액을 기반으로하는 전해질은 독성이 적은 물질로 대체하려는 노력에도 불구하고 ...
  • ATP
    ATP ^ Carboxyethylisothiuronium chloride C3H7ClN2O2S = g/㏖ CAS 5425-78-5 백색~황갈색의 분말로 >98 % 용도 : [니켈도금]용 첨가제 첨가량 : 0.01~0.1 g/l, 소모량 : 1...
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  • 전주법이란 금속의 전착성을 이용하여 전해액 중에서 소정의 우너형 위에다 금속석출층을 생성시켜, 그 전착층을 목적하느느 제품으로 하는 가공법으로서 전기화학적 정밀 ...
  • 인산아연피막은 도장기초로 양호한 내식성을 부여하기 위해 널리 사용되고 있으며, 특히 높은 내식성과 기능이 요구되는 자동차용 페인트 하지로는 거의 100 % 의 점유...