로그인

검색

검색글 11124건
니켈도금에 있어서 새로운 광택제 개발 및 메카니즘에 관한 연구
Study on mechanism and development of new brightener in nickel plating

등록 2008.08.21 ⋅ 61회 인용

출처 과학기술처, 1990년 3월, 한글 25 페이지

분류 보고

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.05
이론적인 양장역학적 방법을 이용하여 광택제의 능력을 조사한 다음 결정핵 발생 속도식을 도입하여 광택제의 메카니즘을 제안한다. 또한 실험적 결과를 이용하여 광택도와 광택제의 전자밀도 사이의 상관 관계를 조사하였다.
  • MICROFAB NI 100은 설파민산니켈용 전기도금으로 고순도 연성 미세입자 무광 저응력이 필요한 반도체 공정용 약품이다.
  • 연장된 전기 주조 맨드릴을 포함하는 장치가 설명되며, 맨드릴은 적어도 하나의 정합 단부를 갖는 적어도 제1세그먼트 및 적어도 하나의 정합 단부를 갖는 제2세그먼트를 포...
  • PN
    PN 1 ^ sodium hydroxy methane sulphonate CAS No. 870-72-4 CH3NaO4S = 134.1 g/㏖ 무색 투명 액상으로 백색 침상 결정 [니켈도금] 구리ㆍ아연ㆍ납 등 중금속 이온 착화제...
  • 전기도금업에 있어서 폐수처리의 문제점과 그 대응등에 관하야 설명하고, 폐수규제의 동향과 그에 대응하는 전기도금업의 검토사항을 설명
  • 아연 징케이트는 자기 컴퓨터 메모리 디스크의 무전해 니켈 도금전에 알루미늄의 전처리로 사용된다. 4개의 침지 아연 징케이트액은 단일 단계 또는 이중 아연 징케이트...