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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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니켈도금에 있어서 새로운 광택제 개발 및 메카니즘에 관한 연구
Study on mechanism and development of new brightener in nickel plating

등록 2008.08.21 ⋅ 63회 인용

출처 과학기술처, 1990년 3월, 한글 25 페이지

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.05
이론적인 양장역학적 방법을 이용하여 광택제의 능력을 조사한 다음 결정핵 발생 속도식을 도입하여 광택제의 메카니즘을 제안한다. 또한 실험적 결과를 이용하여 광택도와 광택제의 전자밀도 사이의 상관 관계를 조사하였다.
  • 약 3~30 g/l 의 아연 Zn 이온, 약 0.2~20 g/l 의 니켈 Ni 이온, 약 20~300 g/l 의 알칼리 수산화물, 약 0.05~0.05 g/l 의 아연-니켈 합금도금욕을 제공한다. 약 10 g/l 의 ...
  • Ni-TiO2 복합도금의 전기화학적 전착에 관하여, 전극 전위, 전해질 내 TiO2 농도의 영향, 자기유체역학 효과 (MHD) 가 전착속도, 조성, 전류 효율, 구조, 표면 상태, 피...
  • 부식방지제 금속의 산처리에서 발생되는 소재의 부식을 방지하는 인히비터를 말한다. 일반적으로 도금 등의 금속의 산처리에서 주로 염산, 황산 등의 무기산과 구연산, 아세...
  • 부품의 표면처리는 내식성, 전기전도성, 접촉저항 및 납땜성 등의 특성이 뛰어난 금 Au 전기도금이 사용되어 왔다. 하지만 부품 비용의 감소 및 미세하고 복잡한 형상의 부...
  • 조성물은 임계량의 하나 이상의 광택제 및 레벨링제를 특징으로 한다. 조성물은 약 10 : 1 이상의 종횡비를 갖는 스루홀을 포함하는 인쇄회로 기판의 스루홀벽을 도금하는데...