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결정의 발생속도 식과 성장속도 식의 해석에 기초한 광택니켈 도금의 새로운 메카니즘
A new mechanism of bright nickel plating on the ground of analysis of rate equtation of Nucleafion and Growth

등록 : 2008.08.23 ⋅ 48회 인용

출처 : 금속표면처리, 21권 2호 1988년, 한글 7 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.16
제1종 광택제로 -C-SO2 의 구조를 가진 용해성 사카린을 공정시키고 제2종 광택제로 -C=O 의 구조를 가진 p-벤즈 알데하이드 Benz aldehyde 위치 치환제를 사용하여 구리시편에 각각 도금을 하고 치환기에 따른 알데하이드 Aldehyde 기 산소원자의 전자밀도와 광택도 평활도 분극곡선의 기울기와의 상관성 여부를 조사하였다.
  • 고속 광택도금이 얼마나 도금업계에 큰 역할을 초래하는지는 말씀드릴것도 없다. 도금용액의 배합 의 수소 이온농도, 액온도, 전류밀도, 광택제 등이 있다. 광택제로는 종래...
  • POPDH ^ Propargyl-oxo-propane-2, 3-dihydroxy 알키닐 알코올 화합물로 저전류 광택 레벨링제로 사용된다. CAS : 13580-38-6 C6 H10 O3 = 130.1 g/㏖ 성상 : 약한 황색~황...
  • PFAS ^ per(poly) fluoro alkyl substances 과불화 화합물을 말하며 섬유ㆍ의류 방수ㆍ얼룩 방지ㆍ세척 등에 사용되며 9,000가지 이상의 합성 화학물질로 구성되어 있다. PF...
  • 테트라 크롬산욕 Tetra Chromate Plating Bath [사중크롬산소다]를 주성분으로 한 크롬도금욕으로 저온에서 고전류 작업이 가능하다. 액온이 30 ℃ 이상되면 사중크롬산소다...
  • 이미다졸과 벤즈이미다졸, 철이온이 포함된 수용액에 구리와 구리합금의 표면처리 첨가제에 관한 연구