도금 첨가제 제조 원료약품 - 비시안 Ag-Zn 도금욕에서의 전석거동

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비시안 Ag-Zn 도금욕에서의 전석거동

Deposition behaviour of electrodeposits from Noncyanide Ag-Zn plating baths

등록 : 2008.08.23 ⋅ 54회 인용

출처 : 표면기술, 46권 1호 1995년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Yong Kang Ji¹⁾ Takeo OKI²⁾

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자료요약

카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.13

아황산 Ag 은 착화를 주성분으로한 비시안욕의, 욕조성과 전해조건 등을 변화하여, 도금피막 석출반응의 전기화학적 캐소드분극 곡선측정에 따라, 광택도금 피막의 석출범위, 안정성, 캐소드석출 거동에 관한 보고

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