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NiFe 박막의 정상적인 전기화학 석출
Normal Electrochemical Deposition of NiFe Films

등록 : 2018.01.16 ⋅ 46회 인용

출처 : AIR, 11권 2호 2017년, 영어 10 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.19
철니켈합금도금은 70 ℃ , pH 1.5~2.5 의 염화물 용액에서 갈바노스테틱 방식의 전착거동을 조사했다. 전해질에 수산화철이 존재하는 것이 비정상의 주요 원인 이었다. 수산화철의 생성은 붕산과 여과를 사용하여 제거되었다. 철이온 Fe3+ 의 형성은 염산에 의해 억제되었다. 염화물 전해질은 안정적이고 비정상 도금을 ...

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