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고전류밀도 염화 아연 도금 공정과 조성
High current density zinc chloride electrogalvanizing process and composition
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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
도포된 HCD 아연피막은 수지상 방지제를 곡물 정제 제보다 더 많은 양으로 증가시킴으로써 설폰화 나프탈렌 포름 알데하이드 항수지제 및 저분자량 에틸렌 옥사이드 중합체를 사용할 때 더 부드러워 질 것이다.
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인산염피막결정의 형성과 형태에 관하여 고찰하고, 전자 스핀공명법을 적용하여 결정구조 와의 관련에 관하여 고찰한 보고서
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ALODINE 5200 treatment is a chromium free product and specifically formulated for treating aluminum and its alloys. Spray or immersion application may be used. T...
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마그네슘 합금에 대한 전기도금 및 무전해 니켈-인 Ni-P 합금도금에 대한 현재의 연구과정을 검토하고, 이론적으로 마그네슘 합금에 대한 전기도금 및 무전해도금이 어려운 ...
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전처리는 도금작업에서 가장 중요한 작업으로, 말하자면 생명이라고도 할수있다. 그리고 그 불빛이 완제품의 품질 및 작업능률을 좌우하는 것이다. 잘알고 있어도 실제로는 ...
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소량의 벤질 알코올을 함유한 메탄설폰산 전해질로부터 Cu-Sn 합금전착을 조사하였다. 구리 기판에 Sn2+의 저전위 전착으로 주석 방전 전위보다 낮은 음극 전위에서도 구리...