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고전류밀도 염화 아연 도금 공정과 조성
High current density zinc chloride electrogalvanizing process and composition

등록 : 2008.08.27 ⋅ 39회 인용

출처 : 미국특허, 1997-5656148, 영어 10 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
도포된 HCD 아연피막은 수지상 방지제를 곡물 정제 제보다 더 많은 양으로 증가시킴으로써 설폰화 나프탈렌 포름 알데하이드 항수지제 및 저분자량 에틸렌 옥사이드 중합체를 사용할 때 더 부드러워 질 것이다.
  • VS
    VS · Na Vinyl Sulfonate ^ Sodium ethylene sulfonate CAS 3039-83-6 C2H3NaO = 130.1 g/㏖ 성상 : 맑은 황색의 액상으로 물에 잘 혼합 순도 : 25 % 광택 니켈 도금에서 VS...
  • 분산 도금은 막 내 마모성, 윤활성, 내식성 등의 기능을 부여 할 수있는 유효한 표면 개질 방법 중 하나로 널리 알려져있다.내마모성 막으로서는 Ni-P-SiC, Co-Cr3C2 등, 윤...
  • 철 및 비철금속상에, 순도가 좋은 알루미늄을 전기적으로 도금하여, 고내식으로 수소취성없이, 외관이 우수한 표면을 만드는 방법이 공업화되어 소개함
  • 크롬산으로 에칭을 수행하여 자동차 및 가전 제품의 소재로 널리 사용되는 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 (eABS) 수지에 도금피막을 만든다. 그러나 최근의 환경 규제로 ...
  • 맥동도금에 대한 모델식을 유도하고 불균일성의 지표로서 무차원 변수를 정의하고 균일한 전착층을 얻기 위한 조건등을 고찰하여 실제 공정에서의 응용에 대한 자료를 제공