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할로겐 주석 조성물과 전기 도금 공정
Halogen Tin composition and electrolytic plating process

등록 2008.08.26 ⋅ 41회 인용

출처 미국특허, 1997-5628893, 영어 6 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
주석 할라이드와 알칼리 양이온을 갖는 염의 산성 혼합물, 및 더 낮은 산화상태에 내성이 있는 산소-포함 무기산 음이온을 포함하는 철함유 소재상에 주석층을 전착하기 위한 물질의 조성물이 개시된다 .
  • Sur/Fin 81- 미국 전기도금 협의회 (American Electroplaters 'Society/AES) 의 68번째 연례회의가 1981년 6월 28일부터 7월 2일까지 매사추세츠주 보스턴에서 열렸다. [[전...
  • 시안화구리도금, 니켈도금, 예비 산성 구리도금, 구리 침지도금, 피로인산 도금, 하이드록실리덴 디포스폰산 HEDP (1-hydroxylidene -1,1-diphosphonic acid) 욕 구리도...
  • 마그네슘 합금은 1997년 초두에 노트북 PC를 시작으로 모바일 기기외장에 채용되어, 표면처리를 주로 도장하지로서 화성처리를 하였다. 그러나 초경량성, 자원의 풍부, 리사...
  • 내연기관용 피스톤링의 표면처리에 관한 설명
  • 착화 · Complexing 착체 착이온을 형성한 염을 말하며, 착이온으로 해리하지만, 착이온 자체는 전리정수가 작아 극소량만 전리한다. 아민화합물·유기 카르본화물 등의 착염...