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전기 도금 조성과 방법
Electroplating composition and process

등록 : 2008.08.29 ⋅ 36회 인용

출처 : 미국특허, 2003-6582582 B2, 영어 5 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.13
프로판 디오산, 디에틸 에스테르, N- (3- 아미노 프로필) -1,3- 프로판 디아민, N- (2- 카복시 벤조일) 을 광택제로 사용되는 중합체를 포함한다. 또한, 전기도금조는 카복실 산, 암모늄염, 알데하이드 화합물 및 다양한 보조 광택제를 포함할수도 있다.
  • 니켈도금욕중 유기 무기불순물의 영향을 억제 니켈피막의 활성화를 좋게한다
  • 전해식 두께 측정기 ^ Culomn Thickness Mesurement 일반적 특징 0.006∼300 ㎛ 사이의 단층, 다층, 합금도금 두께를 측정이 가능하다. 아연ㆍ니켈ㆍ크롬ㆍ동ㆍ금ㆍ은ㆍ주석...
  • 소재표면에 아연 또는 아연합금 도금의 갈바닉 전착을 위한 수성알캬리 시안화물이 설명되어 있으며, 이는 아연이온 소스 및 선택적으로 추가 금속이온 소스, 또한 수산화이...
  • 기존 철강으로 제작된 경질크롬도금을 사용하고 있는것 중에서는 알루미늄으로 제작한 경질 양극산화을 실시하는 것이 좋다고 생각되는 것이 많이 있어 경질 [[양극산화...
  • 인산염 피막의 두께 측정 ^ Phosphate film thickness measurement 피막 특성 인산염 피막은 피막 결정에 굴곡이 많고 피막과 소재와의 경계도 같아 정확한 측정은 어렵다. ...