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비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동
Electrodeposition and electrochemical behaviour of arsenic film in aqueous solution

등록 2008.09.04 ⋅ 47회 인용

출처 표면기술, 40권 9호 1989년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10
반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 비소의 전착막을 만드는 실험
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  • 에틸렌 글리콜 (EG) 용매로 부터 아연-주석 Zn-Sb 합금의 전착을 조사하였다. 염화아연 ZnCl2 및 염화안티몬 SbCl3 또는 안티몬 타르타르산 칼륨 (APT) 은 각각 아연 및 안...
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  • 조금은 엉뚱한 질문입니다만.. 화학도금 할 때..(CuSO4+SnSO4) 초음파 장치를 추가할 경우 좋은 점이 있을까요?? 관련된 자료를 소개해 주시면 감사하겠습니다.