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반도체 D Ram용 포르마린 Free 무전해 구리 (동) 도금의 국산화 기술개발에 관한 연구

등록 : 2019.12.05 ⋅ 22회 인용

출처 : 산업자원부, 2002. 9., 한글 77 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2020.11.15
포르말린 Free 무전해구리도금액 개발을 위하여 다음과 같은 과정으로 수행하였다. 현재 당사에서 이미 개발하여 공급중에 있는 반도체상의 회로형성을 위한 무전해 구리도금액 제조기술을 기본으로 하여 무전해 구리도금액에 대한 문헌과 자료조사를 통하여 무전해 구리도금의 메카니즘과 첨가제의 영향을 분석하고 포...
  • L-셀 · (L-Cell) 미국의 L-Chem 에서 고안한 새로운 실험용 도금조로 음극에 미리 결정된 서로 다른 전류 밀도로 금속을 동시에 전착한다. 각 세그먼트에 대한 전류·전압 데...
  • 시안화물이 아닌 알칼리용액으로부터 아연 전기도금은 DL- 알라닌 (DLA) 과 글루타르 알데하이드 사이에 형성된 축합생성물이 있는 상태에서 수행된다. 액성분 및 액변수는 ...
  • 광택크롬 도금을 만들기 위한 욕조성과 욕중의 각 크롬착화의 전하수 또는 이들의 중량분포와의 연관성을 검토
  • 환원제를 포함한 첨가제를 공급한 후, 처리체에 대하여 황산구리 용액 등의 금속 이온을 포함하는 용액을 공급한다. 첨가제와 금속 이온을 포함하는 용액을 분리하기 때문에...
  • 무전해 Ni-P- 탄소 나노튜브 복합도금을 구리 소재에서 연구하였다. 무전해 Ni-P- 탄소 나노 튜브 복합체의 구조, 구성 및 성능을 연구하기 위해 야금 현미경, 주사전자 현...