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구리 미세 배선형성을 목적으로한 구리전석 프로세스에서 신규 첨가제의 예비 흡착 및 필링 특성
Copper Electroplating for Fine Patterning

등록 2008.12.12 ⋅ 40회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회, n/a, 일본어 2 쪽

분류 연구

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기타

銅微細配線形成を目的とした銅電析プロセスにおける新規添加剤の予備吸着およびフィリング特性

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.21
반도체 장치의 다층 배선에는 알루미늄 Al 계 합금배선에 비해 비저항이 작고, EM 내성이 우수한 구리배선이 주목 받고있다. 구리 미세배선의 형성은 전기도금, 무전해도금으로 대표되는 습식법의 적응이 가능하며, 습식법은 건식법에 비해 비싼 장비를 필요로 하지 않고, 생산성도 우수하다. 전석 프로세스에 의한 미세배선...
  • 안녕하십니까 무전해 연구를 하던중에 무전해 흑니켈도 가능할지 하는 생각이 들어서 이렇게 글올립니다. 무전해 흑니켈에 관한 자료나 문헌 있으시면 부탁드립니다.
  • 뛰어난 내식성, 내크롬용출성 및 페인트 도장성을 가진 크로메이트 도막은 (1) Cr6+ 및 Cr3+ 이온으로 이루어진 무기 성분, (2) 왁소, 유기 플루오르 화합물 및/또는 중합성...
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  • Si 입자가 포함된 황산염 Fe 도금액에서, 전류밀도, 도금액 내 Si 입자의 량, 도금액의 pH, 온도 및 도금액 내 FeSO4 농도가 Si 입자의 공석에 미치는 영향에 대하여 고찰