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3가 크롬도금욕 조성과 방법
Trivalent chromium plating bath composition and process

등록 2009.06.11 ⋅ 44회 인용

출처 미국특허, 1980-4184929, 영어

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.05
3가크롬, 포름산 이온을 착화제로 포함하는 도금욕과 포름알데하이드, 글리옥살, 포르알데하이드 비설파이트, 글리옥살 디바이설파이트로 구성된 그룹에서 선택된 도금욕조 용해 나트륨 포름알데하이드 설포옥실레이트 및 이들의 혼합물 환원제를 사용하는 3가크롬 전기도금용액 및 크롬도금 형성 방법, 욕은 추가적으로 원...
  • 기계적성질응 주안으로 하여 고전류밀도, 고 pH, 고욕온의 단순황산염욕을 기본욕으로 하여, 첨가제로 하나하나의 첨가량의 영향을 조사
  • 표준전위전극 표준전극전위 또는 표준환원전위 는 표준 수소 전극과 환원이 일어나는 반쪽 전지를 결합시켜 만든 전지에서 측정한 전위를 말한다. 즉 표준 환원 전위는 그 ...
  • 지금까지 Al 전해도금에서 좋은 결과를 얻고 있다. Cu 소재을 기반으로하며 그 외, Ni 및 Fe 에서는 LiAlH4 에서 H2 발생시키는 촉매로 사용되고 있기 때문에, 부여된 촉매...
  • RALU PLATE BA ^ Benzalaceton [BAR|벤잘아세톤] 참고 [아연도금광택제|아연도금 광택제] [주석도금광택제|주석도금 광택제]
  • 빌드업 방식 ^ BuildUp PCB 다층 PCB 형성에 있어 도체층과 절연층을 한층씩 형성해 도체층을 쌓아가는 식으로, 양면기판의 경우 차례로 적층해 층간마다 필요한 비아 (Via,...