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마이크로 포러스 크롬 석출을 만드는 도금욕과 공정
Plating bath and process for making microporous chromium deposits
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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.13
미세 입자가 크롬층 또는 하위층에 존재해야 한다는 요건없이 미세 다공성 크롬층을 전기도금하기 위한 조성물 및 방법이 개시된다. 사용된 조성물은 크롬산 및 설포아세트산 및 선택적으로 중크롬산 이온, 설페이트 이온 및/또는 불소 이온을 함유하지만 요오드화물, 셀렌화물 또는 브롬화물 이온은 실질적으로 없다. 평방 ...
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회전 원판전극을 사용하여 전해액의 대류조건을 제어하여 측정도를 높히고, 분극거동에 관한 실험과 글리신, 헥사시아노철산 칼륨 등의 첨가제의 영향을 조사
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헥사시아노철산 인듐 (InHCF) 는 프러시안 블루 유사체이며 K+ 함유 전해질에서 다음과 같은 가역적 산화환원 반응을 한든다. 무색 In [Fe (CN6)] (노란색) + K+ + e ↔ K [(...
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무기 피복조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 유기실란 또는 그의 부분 축합물, 유기실란의 가수분해물 또는 그의 부분축합물, 티타늄, 지르코늄, 알루미늄, 주석 등의...
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히드 록시-프로판 설폰산 또는 히드 록시-프로판 설폰산의 용액을 첨가하는 것을 특징으로하는 무전해 니켈도금 조성물.
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NEMS 기술의 개요와 특성을 소개하고, 관련 소자기술과 공정 및 장비기술에 대한 전반적인 현황을 살펴본 후, 국내외 기술과 시장의 현황을 살펴봄으로써 관련 분야의 전반...