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마이크로 포러스 크롬 석출을 만드는 도금욕과 공정
Plating bath and process for making microporous chromium deposits

등록 2009.09.07 ⋅ 33회 인용

출처 미국특허, 1989- 4865700, 영어 7 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.13
미세 입자가 크롬층 또는 하위층에 존재해야 한다는 요건없이 미세 다공성 크롬층을 전기도금하기 위한 조성물 및 방법이 개시된다. 사용된 조성물은 크롬산 및 설포아세트산 및 선택적으로 중크롬산 이온, 설페이트 이온 및/또는 불소 이온을 함유하지만 요오드화물, 셀렌화물 또는 브롬화물 이온은 실질적으로 없다. 평방 ...