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팔라듐 도금
Palladium Plating

등록 2009.10.06 ⋅ 56회 인용

출처 미국특허, 1985-4545868, 영어 11 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.04
팔라듐 테트라-아미노 착화물 이온, 적어도 10 g/l 농도의 팔라듐금속 및 적어도 하나의 탄산염 또는 적어도 하나의 카보네이트 또는 약 7.5 g/l 초과 및 약 150 g/l 미만 농도의 인산 음이온 용액으로 약 7~9 의 pH 를 가지며 4 차화된 피리디늄으로 광택제로 한다. 팔라듐은 충분한 교반과 100 ASF 이상의 전류 밀도를 제...
  • 광택 황산구리 액을 사용하고 있는데 작업중 황산농도가 계속 증가하고 있습니다. 원인은?
  • 황산염욕과 시안 착화욕과의 균일전착성을 주로하여 전석시의 분극특성을 검토한 실험
  • 환원제가 산화될때 방출한 전자를 금속이온이 받아들여 환원되면서 도금한 물건 위에 석출하는것이다. 무전해 도금층은 비정질 (아모르퍼스 /amorphous) 합금으로 되기 때문...
  • 톨루엔설폰산 ^ p-Toluensulfonic Acid ^ PTSAㆍTSAㆍTosic Acid C7H8O3SH2O = 172.20 g/㏖ CAS 6192-53-5 (104-15-4 일수염) 무색 또는 백색 고체 67 g / 물 100 ㎖ Na 염...
  • 팔라듐 Pd 촉매부여 처리 대신으로 니켈 Ni 스트라이크 도금액의 구성성분이 무전해 Ni 도금액과 유사하기 때문에 Ni 도금액의 착화제가 구리 Cu 위에 석출하는 Ni 결정상태...