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고전류밀도에 있어서 니켈의 석출 (1)
na

등록 : 2009.12.31 ⋅ 55회 인용

출처 : 금속표면기술, 16권 6호 1965년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

高電流密度におけるニッケルの析出 (1)

자료 :

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.17
1964 년에 General Motors 에서 범퍼에 반광택니켈도금 20 μm, 니켈스트라이크도금 0.7~2.5 μm 광택니켈도금 5 μm 의 삼중니켈도금을 140 A/dm2 이상의 전류밀도에서 75 s 로 도금하였다. 고속의 자동연속 얇은 강판 주석도금은 2차 세계대전 이전에 주목되었었다.
  • 설파미터 · Sulpha Meter 일본 야마모도 도금시험기 사의 크롬도금액중 황산분석용 원심분리기 상표명이다. 눈금이 있는 시험관에 1:1 염산과 30% 염화바륨을 첨가하여 발생...
  • 장식표현의 고급화, 디자인의 다양화, 차별화등에 대응되는, 알루미늄의 장식적 표면처리의 개요에 관하여 설명
  • 무전해 니켈 도금은 많은 산업 분야에서 널리 사용되는 도금 방법이다. 그러나 피막의 사용성은 무전해 니켈 도금 공정과 관련된 제어 문제로 인해 제한된다. 도금품질을 보...
  • 유기첨가제는 유용한 도금피막을 생성하기 위해 모든 주석 Sn, 납 Pb 및 주석-납 전기도금 액에 필요하다. 첨가제가 없는 경우 트리형 석출, 밀착불량성 및 칙칙한 도금이 ...
  • 산소농도를 높힐대 HAST 환경을 실현하고, 산화부식이 가속적으로 촉진할 목적으로하여 Air-HAST에 관한 사례를 해설