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Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동
Recent advance in dry etching technology
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.28
에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다
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무전해석출반응을 대상으로한 마이크로이액터를 만들고, 복합금속 나노입자의 제작을 하여, 나노복합 프로세스로서 적용성을 검토
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나노 산화티타늄 TiO2 무전해도금에서 티오황산소다 (sodium thiosulfate), 2 -메르캅토 벤조티아졸 (mercapto benzothiazole) 과 DL -시스테인 (cysteine) 의 욕 안정...
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MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
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비시안화 구리도금 ^ Non Cyanide Copper Plating 시안을 사용하지 않는 구리도금욕은 [황산구리도금|황산구리 도금]ㆍ[피로인산구리도금|피로인산구리 도금]ㆍ[붕불화구리...
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주석도금 피막위에 발생하여, 회로단락 사고의 원인이 되는 주석 위스커에 관하여, 발생방지 대책을 검토할때 고려해야할 사항과 현시점에 있어서 채용가능한 구체적 방법에...