도금 첨가제 제조 원료약품 - Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동

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Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동

Recent advance in dry etching technology

등록 : 2008.09.03 ⋅ 35회 인용

출처 : 표면기술, 53권 12호 2002년, 일본어 5 쪽

분류 : 연구

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저자 :

Itsuko SAKAI¹⁾ Tokuhisa OHIWA²⁾ Makoto SEKINE³⁾

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카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.28

에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다

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