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MEMS 응용을 위한 도금장치의 제작 및 특성 연구
Plating device for MEMS apllication and study of specipication

등록 2008.09.24 ⋅ 62회 인용

출처 한국반도체및디스플레이장비학회, 2004년, 한글 7 쪽

분류 연구

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저자

기타

한국반도체 및 디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 논문집

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
  • 전류를 사용하지 않고 차아인산염 욕에서 니켈과 코발트를 석출하는 공정이 개발되었다. 특정 촉매 금속 표면에서만 금속 소스의 환원, 특정 전처리에 의해 침전물의 밀착력...
  • 높은 코발트-함유 코발트-니켈-인 Co-Ni-P 합금의 조성, 구조 및 자기특성은 전극 포지션의 파라미터를 연구 하였다. 합금은 니켈 및 염화코발트 및 차아인산나트륨로 구성...
  • 부식억제제의 기초 이론과 종류
  • 철강의 구리-니켈-크롬 도금공정 ^ Nickel-Chromium Plating Process on Iron or Steel 일반 금속소재상의 방식을 목적으로한 장식 니켈-크롬 도금의 일반적인 공정이다. 금...
  • 대기중에 배출되는 염소계 화학물질이 지정물질로서 그 환경기준이 정해진 것, 수원 수질에 있어서의 화학물질의 감시와 그 환경기준의 재검토 안전위생을 위한 화학물질의 ...