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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등록 2010.01.14 ⋅ 62회 인용

출처 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분류 해설

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フォトエッチング-理論と技術動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
  • 티타늄 소재의 전기도금 ^ Pretreatment of Titanium Substrate 티타늄이나 텅스텐ㆍ몰리브덴은 같은 안정적이고 고융점인 소재에 대한 도금은 매우 어려워 도금 업계에서는...
  • 자동차의 경량화로, 보디 알루미늄화가 진행되고 있다, 보디전체를 알루미늄으로 할때와, 부분적으로 알루미늄일 때의 2가지로 나누며, 그 표면처리기술에 관하여 소개
  • 최근 광택제 화학의 발전으로 미세 균열이없는 (111) 배향된 팔라듐이 매우 밝고 광택이 나는 전착이 가능해 졌다. 이 선호되는 결정학적 배향은 내마모성을 크게 향상시칸...
  • 백금도금한 티타늄 전극을 제작하기 위해 티타늄의 백금도금 공장에 대한 최적화와 공정변수 상호간의 관계에 대해 조사 조우성 이미경 외 / 경남대학교 정밀화학공학부
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