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염산용액내에 황산첨가에 의한 알루미늄의 교류 에칭 특성
Effect of sulfuric acid addition on the aluminum AC etching iin HCl solution
등록
:
2008.09.03
⋅ 62회 인용
출처
:
공업화학
, 9권 4호 1998년, 한글 6 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
김행영
1)
최진섭
2)
탁용석
3)
기타
:
자료
:
분류 :
염산에칭
⋅
황산첨가
⋅
산화피막
⋅
목록
무전해 구리도금욕 조성
Innotive 종합카타록
plating.kr 로고
자료요약
카테고리 :
양극산화
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.05.31
염산을 주 에칭용액으로 하여 황산이 첨가되었을때 나타나는 알루미늄의 전기화학적 특성을 검토와, 교류전류를 이용한 에칭시에 환원전류 및 황산첨가시 나타나는 알루미늄 핏트 표면에서의 반응 및 산화피막 형성에 미치는 효과를 조사
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