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도금석출과정의 기초해석방법
Approaches for investigating electrochemical deposition process

등록 : 2008.09.10 ⋅ 36회 인용

출처 : 표면기술, 50권 5호 1999년, 일본어 5 페이지

분류 : 해설

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.22
석출과정의 해석은 중요하게 생각되므로, 기초적인 방법에 관하여, 도금분야를 예로 소개
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  • 초고밀도를 달성하기 위한 키디바이스인 자기디스크매체와 자기헤드의 동향을 전망
  • 안정적인 백금도금욕 연구소의 Johnson Matthey Research 의 커뮤니케이션 문서에서는 광범위한 기본가능 DNS 백금도금액에서 무겁고 광댁도금을 생산하는 개발에 대해 설명...