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도금석출과정의 기초해석방법
Approaches for investigating electrochemical deposition process
자료 :
자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.22
석출과정의 해석은 중요하게 생각되므로, 기초적인 방법에 관하여, 도금분야를 예로 소개
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성장하는 전착 금속 층에 도금조에 분산된 입자를 포함함으로써 달성되는 복합 도금의 원리를 고려하였다. 이러한 피복을 구현하기 위해 다른 기술과 비교하여 전기 도금의 ...
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환원제로 차아인산소다를 대신으로 DMAB 을 적용하여, 무전해 니켈-주석-붕소 Ni-Sn-B 합금도금피막의 제작조건과 석출속도와 욕의 안정성에 관하여 조사
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3가크롬을 주성분으로하는 화성피막처리가 도입되어 시장에 정착하기 시작했다. 그러나 이 대체 처리액은 사용에 따라 철 등의 금속불순물이 축적되어가는 것으로 아연...
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레니움-니켈 Re-Ni 피막은 전도성 구리 Cu 및 비전 도성 이산화규소 SiO2 소재에 무전해도금으로 형성 되었다. 높은 Re 함량를 위해 다양한 욕조성을 평가했다. 차아인...