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정밀여과와 흡착의 혼성공정에 의한 Zn(Ⅱ) 이온 제거에 관한 연구
A study on the removal of zinc(II) ion by hybrid processcoupling microfiltration with adsorption
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자료요약
카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.21
도금폐수에 주로 함유되어 있는 아연을 제거할 목적으로 분말활성탄 흡착 공정과 정밀여과막 분리공정을 접합한 혼성공정을 이용하였다. 아연은 분말활성탄으로 흡착시켰으며, 흡착된 아연과 분말활성탄은 정밀여과에 의해 분리하였다.
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무전해니켈 도금조 ^ Electroless Nickel Plating Bath 도금조 일반 산성욕 (중~고인) : 티타늄, SUS 316, 304 및 P/P 질산 박리 가능한 재질 가급적 매끄러운 연마 재질 67...
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분극저항이 큰 약산성 에틸렌디아민 착체욕을 이용하고, 비저항이 큰 Ti 나 TiN 등의 기재상에 직접 구리도금을 하고, 만든 피막의 물성을 평가하여 차세대의 반도체 디바이...
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활성화되지 않은 텅스텐 표면에 니켈을 정직하게 도포하는 방법이 폐쇄되어 있으며, 텅스텐 표면은 수용성 니켈 염, 에틸렌 디아민, 히드라진 및 모노 에탄올 아민이 포함된...
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습식법인 전해니켈법을 선택하여 마그네슘의 종류와 도금시간, pH등의 처리조건 변황 따른 마그네슘의 표면특성을 고찰
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니켈-인산염/붕소(Ni-P/B) 무전해 피막은 자동차, 항공우주, 화학 처리, 식품, 석유 및 가스, 전자, 섬유 및 인쇄를 포함한 다양한 산업 응용 분야에서 물리적 및 기계적 특...