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구리 Cu 다마신 구조의 구리 전기도금 충전에 대한 욕 첨가제와 전류 밀도 효과
Bath Additive and Current Density Effects on Copper Electroplating Fill of Cu Damascene Structures

등록 2022.02.21 ⋅ 81회 인용

출처 Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 562권 1999년, 영어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.02.22
구리 전기 도금은 고급 상호 연결 구조 다마신의 갭 충진을 위한 선도적인 기술이 되었다. 공극과 이음매가 없는 전착물을 생성하는 강력한 전기도금 공정을 개발하는 열쇠는 첨가제 성분, 즉 레벨러, 광택제습윤제의 역할과 상대적 확산/흡착 특성을 이해하는 것이다. 음극 전류/전위 관계에 대한 통찰...
  • 금속표면처리의 전처리공정중 탈청 탈스케일 탈산화막등을 위한 산세 전해산세에 관하여 설명
  • 팔라듐도금 리드프레임에서 니켈과 팔라듐은 리드프레임 제조공정에서 외부리드를 포함한 전체표면에 도금된다. 사용자는 외부리드를 구부린후 도금피막 균열을 지적하였다....
  • 금속 표면처리 약품의 제조와 수출을 이끄는 회사로 1960년 이후 각종염류, 방청유, 수처리 약품 / 산업욕 특수 약품을 생산한다
  • 인쇄회로 기판에 납땜 가능하고 접착가능한 층을 형성할 때의 문제는 추가처리 (전기 부품 장착) 전에 소재를 보관한후 표면이 변색되어 납땜성과 접착성에 영향을 미친다는...
  • 설파민산니켈욕의 응력을 0으로 하고십습니다. 낮은 전류밀도 0.9~1.2 A/dm2로 작업중이며, 사카린을 첨가하면 가능합니까?