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고전류밀도 구리도금에서 첨가제에 따른 전기화학적 특성변화 연구
Electrochemical Study of the Effect of Additives on High Current Density Copper Electroplating

등록 2022.07.15 ⋅ 44회 인용

출처 마이크로전자 및 패키징학회지, 18권 2호 2011년, 한글 6 쪽

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카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.01.12
글루구리의 전해 정련 공정에서의 최대 전류밀도는 350 A/m2 이며 생산성의 증가를 위해선 고전류밀도가 필요하다. 회전전극(RDE)을 이용하면 구리의 표면 확산층의 두께조절이 가능하게 되며 안정적인 1000 A/m2의 고전류밀도 구리 도금이 가능하게 된다. 회전 속도 400 rpm 조건에서 안정적인 고전류밀도 구리 도금이 가능...
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  • 노즐로부터 액체 기체를 분사하는 스프레이기술의 제조방법의 기술의 중요성이 증대되고 있다.
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  • 도금폐수중의 시안화구리 및 시안화소다가 6가크롬을 3가크롬으로 환원하는 작용이 있는 것으로 확인되어 그 반응형식의 확인과, 이를 이용한 상호 처리방법에 관하여 검토
  • In contrast to bright nickel, the NITEC CRYSTAL? electroplating process produces non-reflective, satin, fine crystalline nickel deposits. Even on polished surfac...