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물 수용체 확산의 관찰을 통한 구리 전기화학 연마 기구의 연구
Study of Cu Electrochemical Polishing Mechanism With Observation of Water Acceptor Diffusion
저자
기타
ECP (electrochemical polishing)
자료
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자료요약
카테고리 : 연마/연삭 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.02.11
기존 및 새로운 전기화학 분석 방법을 사용하여 Cu 전기화학 연마의 메커니즘과 거동을 조사하였다. Cu 용해의 경우 연마 유무에 따라 LSV(linear scan voltammetry)와 SEM(scanning electron microscopy) 결과로 분류하였다. EIS(Electrochemical Impedance Spectroscopy) 결과는 이 두 경우의 주요 차이점이 저주파 영역에...
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나노분말로 산화티타늄 TiO2 를 사용하여 복합도금을 통한 표면저항성 향상, 광분해 효과를 기대할수 있으며, 최근에는 연료감응형 전지에 쓰기 위한 연구가 있어, pH 변화...
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알루미늄은 가공성이 좋은 것 등의 이유로 다른 금속에 비해 양극 산화 처리 제품의 용도가 다양하기 때문에, 양극 산화 피막 처리 기술은 알루미늄 표면 처리 업계에서 가...
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다양한 코발트 함량을 가진 Ni-Co 합금을 설파민산욕을 사용하여 전착하였다. 전착된 니켈의 미세 구조와 부식 거동의 변화를 코발트 첨가에 따라 연구하였다. 단면 미세 경...
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헐셀시험이란 모든 도금액에 적용할수 있으며, 시험하려는 도금액의 적정 사용온도에서의 전착특성 및 상태를 넓은 전류밀도 범위에 걸쳐 육안 및 청각으로 조사하여 도...
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주석 전기도금조에는 광택제로 특정 디알콕시 벤즈알데하이드, 유화제, 알파, 베타 불포화 카복실 산, 아미드 및 에스테르가 포함되어 매우 밝은 전착을 제공한다.