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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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최근의 연구의 진보 2. 건식성막
Recent development for research 2 - Dry films

등록 : 2008.09.20 ⋅ 48회 인용

출처 : 표면기술, 36주년기념호, 일본어 7 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.12
CVD PVD 이온 임프란테이션
  • 에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
  • 금속간화합물에 관한 관계자료를 기반으로 내식성 알루미늄재료성분의 황산양극처리거동과 피막질의 연관성 등의 설명
  • 질산산세에 의한 소둔시에 형성된 산화물제거에 착안하여, 산세에 의한 강판표면형태의 변화를 밝히고, 강판표면형채가 인산염처리성의 영향을 연구
  • 화학도금 피막 박리의 기구, 소재 구제를 목적으로한 현장적 도금막의 박리와 그 처방 및 작업상 주의에 관하여 설명
  • 테노리셀 ㆍ Tenori HullCell 금도금 · 귀금속 도금 등의 도금액 실험을 위한 액량 33 ㎖ 의 소형 HullCell 조 참고 [헐셀조] [헐셀시험]