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Modern Electroplating (25) 감시와 운전
Monitoring and Cotrol

등록 2012.07.23 ⋅ 96회 인용

출처 Modern Electroplating, Fifth Edition 2010, 영어 28 쪽

분류 교재

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카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.11
공정 모니터링, 용액 성분 농도 모니터링 및 보충, 제품 모니터링의 세 가지 섹션이 있다. 첫 번째 섹션에서는 도금 및 관련 공정을 모니터링하기 위한 센서 및 기술, 그리고 이를 사용하여 도금 장비의 자동화 수준을 높이는 방법에 중점을 두었다. 도금 공정에 사용되는 화학 물질의 농도 모니터링, 콘트롤 및 제어가 매우...
  • 크롬프리화성피막의 품질을 주변기술을 통한 처리공저을 종합적으로 검증
  • 시안화물은 유독하지만은 전기도금에는 우수한 특성으로 인해 시안화은 Ag 복합조가 오랫동안 사용되어 왔다. 그러나, 욕에서 주요 시안화은 복합체의 조성은 잘알려져 있지...
  • • 더 높은 전류 밀도로 작업할 수 있어 전착 속도가 향상됩니다. • 더 나은 두께 분포 덕분에 양극 소모가 감소합니다. • 수세수를절감할수 있습니다. • 도금욕의 열손실을 ...
  • 금도금과 관련된 전반적인 설명 1. 금 도금의 목적 2. 금 도금의 종류 3. 금 도금의 이론적 배경 4. 금 도금의 응용
  • 온타임이 0.1m sec 이고 평균 전류 밀도가 4 mA/cm2 인 200~400mA/cm2 의 펄스전류는 약 25% 의 팔라듐을 포함하는 밝고 매끄러운 은 합금을 전착하기 위한 최적의 펄스조건...