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고인 Ni-P-Si3N4 복합 피막의 무전해 석출과 특성
Electroless Deposition and Characterization of High Phosphorus Ni-P-Si3N4 Composite Coatings

등록 : 2023.11.06 ⋅ 43회 인용

출처 : Int. J. Electrochem. Sci., 2호 2007년, 영어 15 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.12
pH 4.6 ± 0.2 및 온도 85 ± 2 ℃ 에서 1 g/L 서브미크론 질화규소 입자를 함유하는 차아인산염 환원 무전해 니켈욕을 사용하여 복합 피막을 제조하였다. 일반 Ni-P 피막과 복합피막 모두 석출 속도는 6~8 μm/시간 이었다. Ni-P 매트릭스에 공침 석출된 질화규소 입자의 양은 약 3.5 wt.% 였다. 석출된 도금 표면 조성 분석 결...
  • 저농도 크롬 Cr 도금액 조건에서 도금된 Cr 층의 표면특성을 분석하고 그 결과를 고농도 Cr도금액 조건에서 도금된 Cr 층의 특성에 대해 비교 분석
  • 나노소재기술개발사업단의 2 단계 기획에 직접적으로 활용될 것이며 우리나라 나노소재 기술개발 전략 수립의 중요한 가이드라인 및 민간 연구개발의 참고자료로 활용될 것...
  • 주석산 칼륨 용액을 사용하여 아연-실리콘 함유 알루미늄 합금 위에 침지 주석도금을 하였다. 침지 도금전에 기존의 알루미늄 전처리 방법을 사용하였다. 침지 주석 두께 및...
  • 도금욕의 실제 합금 구성과 전착 매개변수를 기준으로 12~50 % 의 음극 효율을 가진 11~13 중량 % Ni-P 의 강하고 건고한 합금을 만들었다. 초기 니켈-인 전기 도금은 호의...
  • 흑염 · Blackening [흑염처리|흑염 처리] 참고 [착색] [인산염처리|인산염 처리]